当社は、半導体、集積回路、チップ製造などのハイエンド分野に焦点を当て、高-、高{2}}、高安定性のウェハグラファイトキャリアプレートを開発しています。{{3}これらは、蒸着、エッチング、アニーリング、イオン注入などの 2 ～ 12 インチのウェーハの主要プロセス向けに特別に設計されており、ウェーハの処理精度と歩留まりを保証するコアコンポーネントです。

✅ 極めて高純度かつ低不純物: 高純度ニードルコークスから作られ、3000 度の高温黒鉛化処理により処理され、灰分含有量は 20ppm 以下で、ウェーハの金属不純物汚染を排除し、チップ性能の安定性を確保します。

✅-超高平坦度精度: 精密CNC機械加工と研削により、平坦度誤差は±0.005mm以下、表面粗さRaは0.2μm以下で、ウエハの均一な力と熱伝導を保証します。

は50KVAです。

✅ 強力な抗酸化性と耐食性: 表面に特殊なセラミックコーティング技術を採用し、1200度の高温とプラズマ腐食に耐性があり、通常のグラファイトプレートよりも4〜6倍長い耐用年数を誇ります。

✅ カスタマイズされた適応: さまざまなウェーハサイズ (2/4/6/8/12 インチ)、穴分布、厚さ仕様のカスタマイズをサポートし、CVD、PVD、エッチング装置などのさまざまな半導体装置と互換性があります。

半導体業界の厳しい基準を遵守し、原料の精製から成型加工、完成品の検査に至るまで徹底した品質管理を行っています。当社は、信頼性が高く効率的なグラファイトキャリアプレートソリューションを世界の半導体企業に提供し、チップ製造の歩留まりと生産効率の向上に貢献します。

グラファイトキャリアディスク（特にリチウム電池負極用、負極を保持するためのグラファイトキャリアディスク）

超高純度で不純物が少ないため、負極を汚染しません。-

炭素含有量 99.95% 以上、ハイエンド製品の場合は最大 99.99%
灰分含有量 50 ppm 以下、シリコン-カーボンアノードの場合は 5 ppm 以下
2800 度で放出される不純物の総量 < 0.08%、アノードの初期効率とサイクル寿命に影響を与えません。

超高温に対する強い耐性-

-長期安定動作温度: 2600 - 2800度
-短期最高温度耐性: 3000 度、軟化なし、クリープなし、変形なし

低熱膨張、優れた耐熱衝撃性

線膨張係数: 2.2 - 3.2 × 10⁻⁶/度
1300度の急冷・加熱を35サイクル繰り返しても亀裂や変形なし
使用後の全体平面変形 0.3mm/m以下

高密度、高強度、強力な耐荷重性{0}}

体積密度: 1.78 - 1.86g/cm3
室温での圧縮強度 50MPa 以上、2000 度の高温強度- 32% 増加
単一の標準ディスクは最大 800 kg の荷重に均一に耐えることができ、多層に積み重ねても亀裂や崩壊が発生しません。-

ヘルプ FAQ

よくある問題

主な応用産業

1. リチウム電池負極材料産業（優勢）
人造黒鉛アノード、天然黒鉛アノード、シリコン-炭素アノード、ソフトカーボンおよびハードカーボンアノード
内部黒鉛焼結炉、プッシャー炉、ボックス-型高温-炉の底部サポートに使用されます。
2. エネルギー蓄電池材料産業
高温焼結、黒鉛化をサポートする-大容量エネルギー貯蔵アノード。-、多数の量産製品の品質を保証します。-
3. 新たな炭素材料産業
高-導電性カーボン粉末、特殊カーボン粉末、高温熱処理サポート用ナノ-カーボン材料-
4. 高温粉末焼結産業-
セラミック粉末、レアメタル粉末、炭化物粉末不活性雰囲気高温焼結対応-