-真空誘導炉用高純度黒鉛るつぼ

この真空誘導炉用の特別な黒鉛るつぼは、ハイエンド シナリオでの半導体材料の溶解、白金族金属の精製、レアメタル合金の調製向けに設計されています。-第一のタイプの大気雰囲気工業用鋳造るつぼとは異なります。高真空および不活性アルゴン環境で使用されます。 6N グレードの高純度等方性グラファイト-で作られており、低ガス発生不動態化処理プロセスが施されています-。高温での揮発性物質の放出は極めて低く、真空チャンバーや高純度合金原料を汚染しません。-実験室用真空誘導溶解炉や貴金属精錬用のハイエンド真空誘導装置に適しています。{10}これは主に航空宇宙用高温合金、半導体ターゲット材料、プラチナ-ロジウム貴金属の精製生産に使用されます。

独自の精製脱ガスプロセス: ビレットの形成後、72 時間にわたる 1550 度の真空長期脱ガスを経て、黒鉛細孔内の残留水分と有機揮発性物質を除去し、真空溶解中の真空レベルの急激な低下を防ぎます。-表面は CVD-SiC マイクロポア シーリングと不動態化で処理され、内部からの微量不純物の放出を防ぎます。

真空条件構造の最適化：るつぼ全体に継ぎ目の隙間がなく、CNC一体加工で成形されています。肉厚は均一で、弱い部分がありません。真空環境では、微小な亀裂が空気漏れを引き起こすことはありません。-底部は圧力に耐えられるよう厚くされており、高密度のレアメタル溶解物を保持できます。-真空誘導炉の磁場による均一加熱設計と合わせて、炉内温度差を±3℃以内に制御します。