真空炉用黒鉛るつぼ

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真空炉用黒鉛るつぼ
詳細
真空炉用の特別な黒鉛るつぼは、性能を 30% 向上させ、密度 1.8 ~ 1.9 で業界標準をリードし、世界中に直接配送されます。
真空炉業界では、真空炉で使用される黒鉛るつぼは、高純度の材料を溶解するための中心的な機器です。-特に、半導体製造、精密金属合金の製造、実験室での研究など、高い要件が要求されるシナリオに適しています。その特別な構造設計により、真空環境での熱応力を効果的に抑制し、溶解プロセス中の酸化と不純物の残留物を大幅に削減し、製品の純度を 99.99% 以上に維持することができます。
実測データによると、真空炉に使用される黒鉛るつぼは、1200度の高温において熱膨張係数がわずか0.07×10-6/度(業界平均:0.15×10-6/度)であり、その寿命は6200回(競合品平均4500回と比較)にも及びます。
カテゴリー
黒鉛るつぼ
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説明
パフォーマンス指標 試験規格 通常の非酸化防止剤黒鉛ブロック-
(市場の主流)
スタンダードタイプの酸化防止黒鉛ブロック
(業界基本モデル)
固定炭素含有量 GB/T 3521-2021 99.90% 99.95%
灰分含有量 GB/T 1429-2018 100ppm以下 50ppm以下
体積密度 GB/T 24528-2009 1.72~1.76g/cm3 1.78~1.82g/cm3
常温圧縮強度 GB/T 3074.1-2017 45MPa以上 55MPa以上
線膨張係数 2.8~3.2×10⁻⁶/度 33143 2.5~2.8×10⁻⁶/度
熱衝撃サイクル数 熱衝撃サイクル数 15以下 35 以上
寿命(2200度黒鉛化) 工業用測定 200~300 700~1200

H0BA5F1

主な適用業界とシナリオ
1. 半導体・電子材料産業
単結晶シリコン / 多結晶シリコンの製造: 純度 99.999% 以上の結晶成長炉で使用され、シリコン結晶に不純物が混入していないことを保証し、抵抗率の均一性を制御します。
半導体チップ製造: 膜層の純度と均一性を確保するための、アルミニウム蒸着や銅配線プロセスなどの真空コーティング用るつぼ
電子セラミック焼結: 圧電セラミックと誘電セラミックを真空焼結し、高温でも安定し、セラミックの一貫した電気的特性を確保します。
2. 航空宇宙および高温合金産業-
チタン合金 / ニッケル-基-の高温合金の溶解: 真空下での合金元素の酸化を回避し、組成を正確に制御し、航空宇宙エンジンのブレードやミサイル部品の製造に使用されます
難溶融金属の処理: タングステン、モリブデン、タンタルなどの融点が 2000 度を超える金属を真空溶解し、材料の密度と純度を確保します。
特殊機能材料: 高温超伝導材料や形状記憶合金の真空熱処理など、材料の微細構造の安定性を維持します。{0}

3. 貴金属と高純度金属産業-
高純度の金、銀、プラチナの精錬: 真空下での貴金属の蒸発損失を低減(0.005% 以下)。エレクトロニクス産業向けの高純度貴金属ターゲットの調製に使用されます。-
レアメタルの精製: リチウム、ベリリウム、ルビジウムなどの反応性金属を真空蒸留して精製し、空気との反応を防ぎ、純度を 99.999%+ まで高めます。
貴金属回収: 真空下で不純物を効率的に分離し、最大 99.9%+ の回収率で二次汚染を回避します。
4. 新エネルギー素材産業
リチウム-イオン負極材料:-人造黒鉛の高温黒鉛化(2800 度)により、結晶性と導電性が向上し、ハイエンドのパワーバッテリーに使用されます。-
固体電解質: 真空焼結により調製され、材料のイオン伝導性が確保され、次世代-固体電池-に適しています
水素エネルギー材料: 酸化を防止する水素吸蔵合金の真空製錬により、水素吸蔵容量とサイクル安定性が向上します。

Graphite Crucible for Smelting
コアの強み

最適なプランをお選びください。

真空前処理-

初めて使用する前に、残留ガスを除去し、安定した真空レベルを確保するために、1000度の真空炉に2時間保持する必要があります。

雰囲気制御

高温(>2000度)下では黒鉛の昇華速度を抑え寿命を延ばすためにアルゴン(0.01~0.1MPa)を充填することをお勧めします。
グラファイトの酸化や損傷を防ぐため、酸素や塩素などの強い酸化性ガスとの接触を避けてください。

modular-7

30年にわたる深い技術蓄積

過度の熱ストレスを避けるため、真空下での温度上昇率は 30 度/h 以下 (最初の 500 度)。
500 度を超えると、構造の安定性を確保するために 100 度 /h 以下に増加させることができます。

冷却仕様

真空下で800度以下まで自然冷却し、その後不活性ガスを充填して冷却を促進します。
るつぼの割れを防ぐため、急激に冷却しないでください (>50 度/分)。

 

 

 

 

 

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